Horno de desgasificación de vacío VDF200/500
Se utiliza principalmente para la desgasificación de dispositivos, la desgasificación de materiales y la desgasificación del proceso de empaque.
1. Alto vacío, el grado de vacío del horno de desgasificación altamente equipado es tan alto como 10-7Pa.
2. Ambiente limpio: se utiliza vidrio de cuarzo de alta pureza en el revestimiento del equipo para garantizar que no se generen materias extrañas durante el proceso de desgasificación.
3. Fácil de usar. Durante el proceso de desgasificación, el entorno de vacío y el entorno de temperatura tienen visualización de curva en tiempo real. Fácil de verificar.
4. El equipo tiene una función de recopilación de datos y puede enviar parámetros de proceso relevantes, información de alarma y registros de operación al sistema de administración a través de la red.
Estándar
1. Un host del horno de aspiradora;
2. Un enfriador.
3. Un conjunto de bomba seca de vacío + bomba molecular.
Parámetro técnico:
| Número de modelo. | VDF200 | VDF500 |
| Tamaño de la cámara | Φ200mm*250mm | Φ500mm*500mm |
| Modo de apertura de la puerta | Puerta de entrada, interruptor externo | |
| Tasa de fuga | <E-11Pa.M³/S | |
| System pumping speed | 0.1MPa-5E-5Pa Time≤1H | |
| Temperatura de calentamiento | RT+20℃~+600℃ | |
| Precisión de control | ≤±0.5℃ | |
| Rango de presión | Sin carga de vacío en frío (temperatura ambiente)≤E-7pa | |
| Velocidad de calentamiento | Heating time from Temperatura ambiente a 600℃≤40min | |
| Velocidad de enfriamiento | Tiempo de enfriamiento de 600 ℃ a temperatura ambiente ≤1h | |
| Sistema de refrigeración | Con el enfriador de agua, control del programa | |
| Uniformidad de temperatura | Es ± 3℃ a 150℃ y ± 5℃ a 450℃ | |
| Voltaje/Potencia | 220V 50Hz;380v 50Hz/40KW | |
| Tamaño | 680*1100*1550 (Estructura principal) | 980*1100*1800 (Estructura principal) |
